全晶圆级纳米孔制造成为现实：阿斯麦EUV光刻推动分子传感新纪元

扫地僧

IT之家 12 月 22 日消息，比利时微电子研究中心（IMEC）已成功利用阿斯麦（ASML）最先进的极紫外光刻（EUV）设备，实现了纳米孔的全晶圆级制造。阿斯麦公司公关负责人将此称作其公司设备“一项出人意料的卓越生物医学应用”。鉴于纳米孔为分子传感技术开辟的广阔前景，这项突破或将成为该领域的重要进展。

据IT之家了解，纳米孔的特性在生物医学领域极具研究价值。从名字不难推断，纳米孔本质上是一种微小的孔道，直径仅为数纳米。若用更通俗的表述解释：这类孔道的直径约为人类头发丝的万分之一。

如此微小的孔道有何用途？基于分子与纳米孔的相互作用原理，其可被应用于生物医学传感器。纳米孔检测技术的核心原理如下：

通过这种方式，经极紫外光刻技术制备的纳米孔，可充当生物医学传感的“分子关卡”，实现对病毒、蛋白质、脱氧核糖核酸（DNA）等单个分子的检测与识别。这一特性对于分子的精准鉴定与分析至关重要。此外，比利时微电子研究中心指出，调整固态纳米孔的尺寸，还可拓展其在过滤技术与分子数据存储领域的应用场景。

为何要采用极紫外光刻设备？现有纳米孔制备方法存在速度慢、局限于实验室环境、成本高昂等缺陷。而比利时微电子研究中心的论文表明，其已成功在整片 300 毫米晶圆上，制备出直径低至约 10 纳米的高均匀性纳米孔。这项兼具量产化、高精度与可重复性的突破，有望终结纳米孔传感器技术迟迟难以落地的困局。